SilicaPrep I，结晶，0.06?m，pH值10，较高的去除率
SilicaPrep II，非结晶，0.02?m，pH值10.5，更好的表面性
美国QMAXIS氧化硅抛光液，直接从美国工厂进口，品质有保障，价格实在、稳定；库存现货，下单当日即可发货。专业应用工程师全程指导产品使用方法，可为您提供个性化应用方案。
氧化硅抛光液适用范围：
非结晶的氧化硅抛光液，pH值为10.5，能够获取优异的无划痕表面效果，适用于用化学反应生成反应层，然后利用机械方式去除反应层的材料样品制备。具体包括：陶瓷、铝、难熔金属、微电子中的硅等。
包装规格：20KG/桶
储存方式：存放温度是5℃-35℃，避免阳光照射
保质期限：碱性抛光液保质期为两年，建议在一年内使用完
氧化硅抛光液这是一种应用于化学机械研磨（CMP）工艺的胶粒二氧化硅研磨液。用高纯度的胶态氧化硅微粒所组成，可避免加工元件产生刮伤的现象，特别用于铌酸锂、钽酸锂、蓝宝石、石英灯电子材料、光学晶体、金属等抛光。
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