深圳市朗纳研磨材料有限公司是一家专业从事高精度化学机械抛光产品的研究，开发，生产和经营的企业，位于中国深圳。主要生产的抛光液包括单晶金刚石悬浮液，多晶金刚石悬浮液，氧化铝抛光悬浮液，氧化铝抛光粉，金相抛光垫，液体抛光蜡，二氧化硅抛光液，氧化铝抛光液，金刚石抛光液，二氧化铈抛光液，碳化硅抛光液，ZrO2抛光液，冷却剂＆研磨液等。应用领域主要集中在led蓝宝石基板，蓝宝石窗口，手机金属外壳的精密抛光，玻璃盖抛光和半导体材料抛光等方面. 氧化铈抛光液主要包含玻璃抛光液、氧化铈抛光液。深圳市朗纳研磨材料有限公司生产的玻璃抛光、氧化铈抛光液特征: 1. 玻璃氧化铈抛光液具有 窄粒度分布、优异的悬浮分散性和良好的流动性，可确保抛光后产品性能一致，表面无划痕和其他表观缺陷，专业定制氧化铈抛光液可按客户要求订制
，以得到高质量精密抛光表面。2. 玻璃氧化铈抛光液采用碱性体系配方，增强了化学抛光作用，专业定制氧化铈抛光液可按客户要求订制
，使本产品具有较高的抛光效率，同时使抛光颗粒的清洗更为容易。3. 玻璃氧化铈抛光液可用于所有种类玻璃、石英、硒化锌、单晶硅片、氟化物及其他含硅组成光学材料的抛光。4. 玻璃氧化铈抛光液满足ROHS法规。5. 磨料种类：氧化铈粉。6. D50规格：0.3~3微米。7. 包装：1公斤/瓶；5、10、25公斤/桶。深圳市朗纳研磨材料有限公司专业生产超高纯度,玻璃抛光、氧化铈抛光液，超细粒度纳米氧化铈及稀土氧化物,德国技术,德国品质,专业专注,精益求精,适用于电子,抛光,催化剂,蓄电池,造纸,纺织等行业，诚信天下!欢迎广大客户来电咨询!
铝和铝合金化学抛光的方法
铝和铝合金的化学抛光是以70％(质量百分数)的磷酸为根底的溶液。常用的是磷酸、硝酸、硫酸混合液，当合金成分改变时，硫酸含量(质量百分数)在9％。l5％之间改变，硝酸含量(质量百分比)在3％～9％之间改变。由于工作温度在105℃左右，很多发生氮氧化物污染环境。因而，在磷酸和硫酸混合液根底上用S类酸铜光亮剂作添加剂，发生了无黄烟化学抛光工艺。但这种无黄烟化学抛光只适用于纯铝或铝镁合金，对其他铝合金作用较差。后来又有只加2％硝酸的配方呈现，也用相似的添加剂，没得到扩展适用范围。可是，至今磷酸、硝酸、硫酸混合液由于适应性强，仍是干流配方。 含铜、锌较高的铝合金，化学抛光时加2～5g/L铬酐有协助。手册上有记叙，含硅高的铝合金，化学抛光时用60～65mL／L硝酸、15～20mL／L、 1～2mL／L的混合液，在室温下浸2s。不过这种办法更像是浸蚀。 还有一种含醋酸的配方，适用于纯铝和2A12(LYl2)：磷酸850mL／L冰乙酸l00mL／L硝酸50mL／L温度80～100℃时刻2～5min 醋酸关于避免点状腐蚀有更好的作用。
铝合金与铝管的化学抛光方法
铝和铝合金的化学抛光是以70％(质量百分数)的磷酸为根底的溶液。常用的是磷酸、硝酸、硫酸混合液，当合金成分改变时，硫酸含量(质量百分数)在9％。l5％之间改变，硝酸含量(质量百分比)在3％～9％之间改变。由于工作温度在105℃左右，很多发生氮氧化物污染环境。因而，在磷酸和硫酸混合液根底上用S类酸铜光亮剂作添加剂，发生了无黄烟化学抛光工艺。但这种无黄烟化学抛光只适用于纯铝或铝镁合金，对其他铝合金作用较差。后来又有只加2％硝酸的配方呈现，也用相似的添加剂，没得到扩展适用范围。可是，至今磷酸、硝酸、硫酸混合液由于适应性强，仍是干流配方。 含铜、锌较高的铝合金，化学抛光时加2～5g/L铬酐有协助。手册上有记叙，含硅高的铝合金，化学抛光时用60～65mL／L硝酸、15～20mL／L、 1～2mL／L的混合液，在室温下浸2s。不过这种办法更像是浸蚀。7075铝排 还有一种含醋酸的配方，适用于纯铝和2A12(LYl2)： 磷酸850ml/L 冰乙酸100ml/L 硝酸50ml/L 温度80-100℃ 时刻2-5min 醋酸关于避免点状腐蚀有更好的作用。
铜合金抛光
铜合金抛光一、电解抛光 铜及其合金的电解抛光，广泛采用磷酸电解液。其工艺规范列于表2—4—4。 新配制的溶液，应进行通电处理。配方1通电量为5A·h／L，此时溶液中的含铜量为3g／L～5g／L；配方2通电量约为10A·h／L。表2—4—4铜及其合金也解抛光工艺规范
抛光液是一种不含任何硫、磷、氯添加剂的水溶性抛光剂，抛光液具有良好的去油污，防锈，清洗和增光性能，并能使金属制品显露出真实的金属光泽。性能稳定、无毒，对环境无污染等作用。
抛光液是一种不含任何硫、磷、氯添加剂的水溶性抛光剂，具有良好的去油污，防锈，清洗和增光性能，并能使金属制品超过原有的光泽。本产品性能稳定、无毒，对环境无污染等作用，光液使用方法:包括棘轮扳手、开口扳手，批咀、套筒扳手，六角扳手，螺丝刀等，铅锡合金、锌合金等金属产品经过研磨以后，再使用抛光剂配合振动研磨光饰机，滚桶式研磨光式机进行抛光;1抛光剂投放量为(根据不同产品的大小，光饰机的大小和各公司的产品光亮度要求进行适当配置)，2:抛光时间:根据产品的状态来定。3、抛光完成后用清水清洗一次并且烘干即可。
应用
1. LED行业
目前LED芯片主要采用的衬底材料是蓝宝石，在加工过程中需要对其进行减薄和抛光。蓝宝石的硬度 ，普通磨料难以对其进行加工。在用金刚石研磨液对蓝宝石衬底表面进行减薄和粗磨后，表面不可避免的有一些或大或小的划痕。CMP抛光液利用"软磨硬"的原理很好的实现了蓝宝石表面的精密抛光。随着LED行业的快速发展，聚晶金刚石研磨液及二氧化硅溶胶抛光液的需求也与日俱增。
2.半导体行业
CMP技术还广泛的应用于集成电路(IC)和超大规模集成电路中(ULSI)对基体材料硅晶片的抛光。随着半导体工业的急速发展，对抛光技术提出了新的要求，传统的抛光技术(如:基于淀积技术的选择淀积、溅射等)虽然也可以提供"光滑"的表面，但却都是局部平面化技术，深圳市朗纳研磨材料有限公司,专业定制氧化铈抛光液可按客户要求订制
,朗纳研磨材料,不能做到全局平面化，而化学机械抛光技术解决了这个问题，它是目前 的可以在整个硅圆晶片上 平坦化的工艺技术。
.朗纳研磨材料///专业定制氧化铈抛光液可按客户要求订制
